Elektronik

FÖRSÖRJNING, TEKNIK OCH UTRUSTNING FÖR ELEKTRONIKINDUSTRIN

Ladda upp ditt företag

Vi höjer kvaliteten på våra elektronikmaterial för att hjälpa dig att göra en bättre produkt. Vi levererar produkter till halvledar-, plattskärms-, LED- och solenergimarknaden och tillhandahåller det material du behöver för att hålla världen uppkopplad. Vi på Praxair mäter nämligen vår framgång utifrån hur väl vi hjälper dig att lyckas.

Läs mer om hur vi betjänar liknande branscher.

INDUSTRIGASER FÖR ELEKTRONIKINDUSTRIN

Nitrogen Nitrogen Nitrogen

Nitrogen används ofta i kylnings- och reningstillämpningar och är en avgörande del i tillverkningen av elektronik och halvledare.

Argon Argon Argon

Argon är med sin höga stabilitet och extremt låga reaktivitet en viktig gas inom tillverkning av solceller och halvledare.

Hydrogen Hydrogen Hydrogen

Hydrogen används av en mängd olika elektroniktillverkare och fungerar som bärgas för tunnfilmsdeponering samt som reduktant vid masugnsbehandlingar.

Helium Helium Helium

Helium är viktigt på marknaden för plattskärmar och används som kylmedel och är även en viktig komponent för de kontrollerade miljöer som krävs för att bygga halvledarenheter.

Silan Silan

Silan är ett viktigt råmaterial för tunnfilmsdeponering av amorfa filmer och polysilikonfilmer i halvledar-, skärm- och solenergibranschen.

Ammoniak Ammoniak

Ammoniak är den vanligaste nitrogenperkursorn för tillväxten av nitridbaserade tunna filmer och epitaxiella kristaller. Ultrahög renhet är avgörande för epitaxiella kristalltillämpningar i LED-branschen.

Koldioxid Koldioxid Koldioxid

Koldioxid med hög renhet hjälper till att avlägsna mycket små partiklar i reningstillämpningar och hjälper till att förhindra kollaps av fotoresistens under torkning för kritiska halvledarskikt.

Diklorsilan Diklorsilan

Diklorosilan möjliggör tillväxten av tunna filmer i kristallint kisel vid låga temperaturer, med högre tillväxthastighet än silan inom halvledar- och solenergibranschen.

Triklorsilan Triklorsilan

Triklorosilan möjliggör tillväxten av tunna filmer i kristallint kisel vid låga temperaturer, med högre tillväxthastighet än silan inom halvledar- och solenergibranschen.

Fosfin Fosfin

Fosfin används som jonimplanteringskälla för dopning av n-typ inom halvledar- och solcellenergibranschen samt som CVD-källa för dopning av n-typ inom halvledar- och skärmtillverkning.

Arsin Arsin

Arsin används som jonimplanteringskälla för dopning av n-typ i halvledartillverkning. Det är också ett råmaterial för epitaxiell tillväxt av kristallina celler i halvledare och solceller.

INDUSTRIELLA TJÄNSTER FÖR ELEKTRONIKINDUSTRIN

Vi erbjuder inte bara elektonikgaser och tillämpningar för elektronikbranschen. Vi hjälper dig att optimera varje steg i processen. Vi erbjuder hjälp med såväl rådgivning som implementering och användning och vårt utbud av industriella tjänster hjälper dig att övervaka och hantera gasförsörjningen så att du kan satsa på att vara så produktiv och effektiv som möjligt.

Se våra tjänster